- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本產(chǎn)品為桌面型小型雙源蒸發(fā)鍍膜儀,設備安裝有兩套蒸發(fā)源,各蒸發(fā)源分別供電,可交替開啟也可同時開啟;每個蒸發(fā)源可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發(fā)溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍,因此被廣泛用于電極的制備和有機物發(fā)光LED的制備。真空腔體采用不不銹鋼制作,配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空,能夠滿足絕大部分材料蒸發(fā)所需的真空環(huán)境。兩組蒸發(fā)源對稱放置,每個蒸發(fā)源均具有單獨的擋板,可保證鍍膜過程中不被污染。
小型雙源蒸發(fā)鍍膜技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 |
桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀 |
|
產(chǎn)品型號 |
CY-EVZ170-Ⅱ-H-SS |
|
樣品臺 |
外形尺寸 |
直徑φ60mm |
轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
|
至蒸發(fā)源間距 |
60~100mm 連續(xù)可調(diào) |
|
熱蒸發(fā)源 |
配 2 個鎢舟、2個鎢絲籃 |
|
蒸發(fā)電源 |
2個,每個蒸發(fā)源均配擋板 |
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ170mm,高度210mm |
觀察窗口 |
直徑φ60mm |
|
腔體材質(zhì) |
304不銹鋼 |
|
開啟方式 |
上開啟式 |
|
膜厚測量 |
晶體膜厚測量儀(也可選膜厚控制儀) |
|
真空系統(tǒng) |
前級泵 |
雙極旋片泵,氣體抽速1.1L/S |
次級泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
|
真空測量 |
復合真空計(電離規(guī)+電阻規(guī)) |
|
系統(tǒng)真空 |
5×10-4Pa |
|
控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級控制器 |
|
其他參數(shù) |
供電電源 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
600mm×600mm×750mm |
|
整機功率 |
1200W |
|
整機重量 |
40kg |